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ALD常用前驱体在半导体、显示、纳米、新能源、催化等高校科研领域的研究热度颇高。针对客户实际需求，我司可提供研发级的先进ALD 常用前驱体，产品纯度最高可达6.5N，并支持为客户定制合成；产品可用于制备学术研究和企业研发用的金属/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜。 同时，我们也可以提供钢瓶的定制、清洗、灌装等服务及ICP-MS等先进的材料表征服务，能够对产品和钢瓶进行ppb级别的纯度分析。配备氦质谱检漏仪，保证所有出货的钢瓶气密性良好。
ALD常用前驱体在半导体、显示、纳米、新能源、催化等高校科研领域的研究热度颇高。针对客户实际需求，我司可提供研发级的先进ALD 常用前驱体，产品纯度最高可达6.5N，并支持为客户定制合成；产品可用于制备学术研究和企业研发用的金属/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜。 同时，我们也可以提供钢瓶的定制、清洗、灌装等服务及ICP-MS等先进的材料表征服务，能够对产品和钢瓶进行ppb级别的纯度分析。配备氦质谱检漏仪，保证所有出货的钢瓶气密性良好。
产品介绍：
一种无色透明液体，室温下具有很高的饱和蒸气压，可以用作烯烃聚合催化剂、引火燃料。也可以和其他共反应物生长氧化物和氮化物，在微电子和光电器件中有广泛应用。
产品介绍：
一种无色透明液体，可以和其他共反应物沉积氧化物、氮化物等薄膜，其生长的氧化物是一种高K介质材料，具有非常好的热稳定性，被用作栅介质替代层和保护涂层。
产品介绍：
一种对水气敏感的淡黄色液体; 用于ALD/MOCVD，制备TiO2、TiN、TiSx等薄膜，广泛应用于动态随机存取存储器、Cu扩散屏障、CMOS金属栅材料、场效应晶体管、催化等领域。
产品介绍：
一种对水氧敏感的黄色液体; 用于ALD/MOCVD，制备TiO2、TiN薄膜，应用于动态随机存取存储器、Cu扩散屏障、CMOS金属栅材料、场效应晶体管、催化等领域。
产品介绍：
一种对水氧敏感的黄色液体; 用于ALD/MOCVD，制备TiO2、TiN薄膜，应用于动态随机存取存储器、Cu扩散屏障、CMOS金属栅材料、场效应晶体管、催化、自组装单分子层(SAMs)等领域。
产品介绍：
一种对水敏感的无色/淡黄色液体；用于ALD/MOCVD，制备TiO2、BaTixOy、PbTixOy、 SrTixOy等薄膜，应用于动态随机存取存储器、Cu扩散屏障、CMOS金属栅材料、场效应晶体管、催化等领域。
产品介绍：
一种对水敏感的黄色液体；用于ALD/MOCVD，制备金属Ti、TiO2、TiN、TiS2等薄膜，可用于微电子、太阳能电池、光催化和太阳能电池等领域。
产品介绍：
一种对水氧极其敏感的无色液体；用于ALD/MOCVD，制备GaN、GaAs、AsGaAl等半导体薄膜材料，是制备半导体材料的核心基础材料之一，广泛应用于集成电路、液晶显示、LED照明、传感器、激光器、光伏电池等行业。
产品介绍：
一种具有胺样气味的黄色可燃液体，可用于W的氮化物薄膜、氧化物薄膜、碳化物薄膜的ALD前驱体源，可广泛应用于薄膜电容器、电致变色、催化、硬质涂层和微电子等领域。
产品介绍：
一种对水气敏感的橘黄色固体粉末，用于ALD/MOCVD，制备Ta2O5、TaNx等薄膜，广泛应用在微电子领域中铜扩散阻挡层、电容器、存储器、能源电池、光催化等领域。
产品介绍：
一种对水敏感的黄色液体；用于ALD/MOCVD，制备Ta2O5、TaNx、TaNxCy等薄膜，广泛应用在微电子领域中铜扩散阻挡层、电容器、存储器、能源电池、光催化等领域。
产品介绍：
一种蒸气压高，在正常条件下热稳定性好的液态ALD前驱体源，用于沉积氧化钴薄膜及金属钴薄膜，可广泛应用于电镀、电致变色器件、非均相催化剂、固态气体传感器、电阻随机存取存储器(ReRAM)器件等技术领域，此外，氧化钴还是一种活性催化剂，可减小空气污染。
产品介绍：
一种无色液体，可作为Si的氮化物薄膜及氧化物薄膜的ALD前驱体源，被广泛用作表面钝化保护膜、绝缘层、杂质扩散掩膜、刻蚀掩膜以及半导体元件的表面封装以及化学和生物传感器器件上。
产品介绍：
一种无色的易燃液体，可作为Si的氮化物薄膜及氧化物薄膜的ALD前驱体源，薄膜可广泛应用于电子器件、集成器件、光学薄膜器件、化学和生物传感器器件上，此外，在光催化、微电子和透明绝热等领域具有良好的发展前景。
产品介绍：
一种带有一种像酒精的气味的无色液体，可在低温下实现沉积SiO2薄膜的ALD前驱体源，薄膜是一种重要的无机材料，被广泛用作表面钝化保护膜、绝缘层、杂质扩散掩膜、刻蚀掩膜以及半导体元件的表面封装等。
产品介绍：
一种无色、易燃的液体，是常见的ALD沉积氧化钒薄膜的前驱体源，氧化钒薄膜广泛应用于气体传感器、催化剂和二次电池电极等领域。
产品介绍：
一种对水敏感的透明液体，是常见的沉积氧化锡的ALD前驱体源，氧化锡薄膜可应用于光伏、气体传感、催化、光电子、建筑玻璃涂层等领域，也可用于涂覆氧化铟薄膜，制备氧化铟锡，是工业上最重要的透明导电氧化物之一。
ALD常用前驱体在半导体、显示、纳米、新能源、催化等高校科研领域的研究热度颇高。针对客户实际需求，我司可提供研发级的先进ALD 常用前驱体，产品纯度最高可达6.5N，并支持为客户定制合成；产品可用于制备学术研究和企业研发用的金属/氧化物/氮化物/碳化物/硅化物/硫化物薄膜。 同时，我们也可以提供钢瓶的定制、清洗、灌装等服务及ICP-MS等先进的材料表征服务，能够对产品和钢瓶进行ppb级别的纯度分析。配备氦质谱检漏仪，保证所有出货的钢瓶气密性良好。
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